The Effect Of Implant Angle And Resist Shadowing In Submicron Implant Technology
Dengan adanya peningkatan teknologi bagi industri fabrikasi litar terkamil (IC) ke tahap 90nm dan seterusnya, masih terdapat isu yang perlu ditimbangkan untuk technologi yang lebih rendah (0.13μm dan 0.22μm). As the integrated circuit (IC) fabrication industry gears up to volume manufacturing of...
Saved in:
| Main Author: | |
|---|---|
| Format: | Thesis |
| Language: | English |
| Published: |
2006
|
| Subjects: | |
| Online Access: | http://eprints.usm.my/29274/1/The_effect_of_implant_angle.pdf |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Summary: | Dengan adanya peningkatan teknologi bagi industri fabrikasi litar terkamil (IC) ke tahap 90nm dan seterusnya, masih terdapat isu yang perlu ditimbangkan
untuk technologi yang lebih rendah (0.13μm dan 0.22μm).
As the integrated circuit (IC) fabrication industry gears up to volume manufacturing of 90nm technology node and beyond, there are issues still need to be addressed at the lower technology nodes such as 0.13μm and 0.22μm. |
|---|