Effect of growth temperature and catalyst on the formation of one-dimensional silicon nanostructures via thermal evaporation technique.
Pembentukan silikon berstruktur nano melalui teknik pengewapan terma telah dikaji dengan fungsi suhu penyepuhlindap dan pemangkin yang memainkan peranan penting dalam proses ini. Serbuk silikon sebagai bahan mentah telah digunakan bagi membolehkan pengewapan berlaku pada suhu yang tinggi (900-1100oC...
Saved in:
| Main Author: | |
|---|---|
| Format: | Thesis |
| Language: | English |
| Published: |
2011
|
| Subjects: | |
| Online Access: | http://eprints.usm.my/43106/1/Pages_from_EFFECT_OF_GROWTH_TEMPERATURE_AND_CATALYST_ON.pdf |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Summary: | Pembentukan silikon berstruktur nano melalui teknik pengewapan terma telah dikaji dengan fungsi suhu penyepuhlindap dan pemangkin yang memainkan peranan penting dalam proses ini. Serbuk silikon sebagai bahan mentah telah digunakan bagi membolehkan pengewapan berlaku pada suhu yang tinggi (900-1100oC) dalam aliran gas argon (Ar).
The formation of silicon nanostructures, via thermal evaporation techniques, was studied as a function of annealing temperature and catalyst (Au and AuPd).The silicon powder, serving as the starting source material, was evaporated at a high temperature (900-1100°C) in the flow of argon gas. |
|---|