Silicon nanowire field-effect transistor (SiNWFET) and its circuit level performance
Since the number of transistors on Integrated Circuit (IC) double every 18 months, the scaling of a device in nanometer is highly required. Due to the downscaling process, conventional Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect- Transistors (MOSFET) lead to the short-channel effects, gate-leakage curren...
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | |
---|---|
التنسيق: | أطروحة |
اللغة: | English |
منشور في: |
2014
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | http://eprints.utm.my/id/eprint/48023/25/SitiNorazlinBahadorMFKE2014.pdf |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|