Structure, morphology and wettability properties of carbon nitride nanostructures deposited by plasma enhanced chemical vapour deposition technique /
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Shafarina Azlinda Ahmad Kamal (مؤلف) |
---|---|
التنسيق: | أطروحة كتاب |
اللغة: | English |
منشور في: |
2016.
|
الموضوعات: | |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Plasma enhanced chemical vapour deposition of carbon nitride films from ethane and nitrogen gas mixtures /
بواسطة: Maisara Othman
منشور في: (2012) -
Amorphous silicon (a-Si:H)/silicon nitride (a-SiNx:H) superlattice by D.C. plasma enhanced chemical vapour deposition : preparation and characterization /
بواسطة: Mitani, Sufian Mousa Ibrahim
منشور في: (2004) -
Hydrogenated amorphous silicon by pulsed plasma enhanced chemical vapour deposition technique /
بواسطة: Goh, Boon Tong
منشور في: (2005) -
Hot-wire plasma enhanced chemical vapour deposition system for preparation of silicon carbide thin films /
بواسطة: Aniszawati Azis
منشور في: (2012) -
Hot-filament plasma enhanced chemical vapour deposition of transfer-free graphene using nickel catalyst /
بواسطة: Maisara Othman
منشور في: (2019)