Luo, L. (1998). Growth of the transition metal silicides films from single source precursors by MOCVD.
توثيق أسلوب شيكاغو (الطبعة السابعة عشر)Luo, Lan. Growth of the Transition Metal Silicides Films from Single Source Precursors by MOCVD. 1998.
توثيق جمعية اللغة المعاصرة MLA (الطبعة الثامنة)Luo, Lan. Growth of the Transition Metal Silicides Films from Single Source Precursors by MOCVD. 1998.
تحذير: قد لا تكون هذه الاستشهادات دائما دقيقة بنسبة 100%.