Han, K. K. (1998). Electrical and structural characterisation of rapid thermal annealed RF sputtered silicon oxide films.
توثيق أسلوب شيكاغو (الطبعة السابعة عشر)Han, King Kwang. Electrical and Structural Characterisation of Rapid Thermal Annealed RF Sputtered Silicon Oxide Films. 1998.
توثيق جمعية اللغة المعاصرة MLA (الطبعة الثامنة)Han, King Kwang. Electrical and Structural Characterisation of Rapid Thermal Annealed RF Sputtered Silicon Oxide Films. 1998.
تحذير: قد لا تكون هذه الاستشهادات دائما دقيقة بنسبة 100%.