Degradation and annealing of electrically-stressed thin oxide in MOS devices /
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Ng, Wee Thong |
---|---|
التنسيق: | أطروحة كتاب |
اللغة: | English |
منشور في: |
1998.
|
الموضوعات: | |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Reliability investigation of MOS devices under high current impulse stressing /
بواسطة: Teh, Gim Leong
منشور في: (1998) -
Electrical characterisation of MOS gate oxide /
بواسطة: Ooi, Joo Aik
منشور في: (1996) -
New techniques for the characterization of hot-carrier degradation in MOS devices /
بواسطة: Leang, Sern Ee
منشور في: (1997) -
Characterization of hot-carrier degradation in submicrometer MOS transistors /
بواسطة: Ang, Diing Shenp
منشور في: (1997) -
A comparative study of MOS capacitors fabricated on single-crystal and polycrystalline silicon /
بواسطة: Tay, Tuang Mee
منشور في: (1990)