Synthesis and characterization of RF-PECVD carbon nitride thin films /
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Lim, Shuang Fang |
---|---|
التنسيق: | أطروحة كتاب |
اللغة: | English |
منشور في: |
1999.
|
الموضوعات: | |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
PECVD hydrogenated amorphous carbon films : growth and characterization /
بواسطة: Rozidawati Awang
منشور في: (2008) -
Plasma enhanced chemical vapour deposition of carbon nitride films from ethane and nitrogen gas mixtures /
بواسطة: Maisara Othman
منشور في: (2012) -
Hot-wire plasma enhanced chemical vapour deposition system for preparation of silicon carbide thin films /
بواسطة: Aniszawati Azis
منشور في: (2012) -
Hydrogenated silicon nitride alloy from DC plasma decomposition : preparation and physical properties /
بواسطة: Raihan Othman
منشور في: (1998) -
Influence of hydrogenated amorphous carbon underlayer film on the formation of carbon nitride nanostructures /
بواسطة: Noor Hamizah Khanis
منشور في: (2013)