The effect of nitrogen incorporation into gate oxide by nitrogen implantation /
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Ko, Lian Hoon |
---|---|
التنسيق: | أطروحة كتاب |
اللغة: | English |
منشور في: |
1999
|
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Development of ultra-thin nitrogen-rich gate oxide process for deep submicron CMOS technology /
بواسطة: Lek, Chun Meng
منشور في: (2002) -
Analysis of corrosion fatigue for commercially pure titanium using nitrogen ion implantation
بواسطة: Ali, Nurdin
منشور في: (2014) -
Gate oxide integrity study /
بواسطة: Lee, Joshua Wai Khin
منشور في: (1999) -
Surface studies of heterogenous catalytic decomposition of nitrogen oxides /
بواسطة: Chen, Luwei
منشور في: (2000) -
Growth and characterization of nitrogen doped GaP grown by liquid phase epitaxy /
بواسطة: Saith, Saket
منشور في: (1999)