Tay, M. G. L. (2000). Characterisation of Ta2O5 thin films for sub-0.25um applications.
توثيق أسلوب شيكاغو (الطبعة السابعة عشر)Tay, Mark Gek Leng. Characterisation of Ta2O5 Thin Films for Sub-0.25um Applications. 2000.
توثيق جمعية اللغة المعاصرة MLA (الطبعة الثامنة)Tay, Mark Gek Leng. Characterisation of Ta2O5 Thin Films for Sub-0.25um Applications. 2000.
تحذير: قد لا تكون هذه الاستشهادات دائما دقيقة بنسبة 100%.