Stress-induced leakage current in thin oxides under high-field impulse stressing /
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Tan, Yan Ny |
---|---|
التنسيق: | أطروحة كتاب |
اللغة: | English |
منشور في: |
2002.
|
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Latent damage generation in silicon dioxide under high-field impulse and constant-bias stressing /
بواسطة: Lim, Peng Soon
منشور في: (2001) -
Reliability investigation of MOS devices under high current impulse stressing /
بواسطة: Teh, Gim Leong
منشور في: (1998) -
The performance of soil under high current impulses
بواسطة: Idris, Nurul Aishah
منشور في: (2007) -
Optimization of zinc oxide surge arrester design in reducing leakage current /
بواسطة: Nurul Ain Abdul Latiff
منشور في: (2018) -
Comparison of single-phase transformerless photovoltaic grid-connected inverter topologies with high efficiency and low ground leakage current /
بواسطة: Maaspaliza Azri
منشور في: (2014)