توثيق جمعية علم النفس الأمريكية APA (الطبعة السابعة)

Tay, M. G. L. (2000). Characterisation of Ta2O5 thin films for sub-0.25 um applications: Characterisation of Ta2O5 thin films for sub-0.25 um applications.

توثيق أسلوب شيكاغو (الطبعة السابعة عشر)

Tay, Mark Gek Leng. Characterisation of Ta2O5 Thin Films for Sub-0.25 Um Applications: Characterisation of Ta2O5 Thin Films for Sub-0.25 Um Applications. 2000.

توثيق جمعية اللغة المعاصرة MLA (الطبعة الثامنة)

Tay, Mark Gek Leng. Characterisation of Ta2O5 Thin Films for Sub-0.25 Um Applications: Characterisation of Ta2O5 Thin Films for Sub-0.25 Um Applications. 2000.

تحذير: قد لا تكون هذه الاستشهادات دائما دقيقة بنسبة 100%.