Zhang, H. (2002). Study on the corrosion behavior of tungsten and titanium in post-etch strippers commonly used in semiconductor manufacturing.
توثيق أسلوب شيكاغو (الطبعة السابعة عشر)Zhang, Hao. Study on the Corrosion Behavior of Tungsten and Titanium in Post-etch Strippers Commonly Used in Semiconductor Manufacturing. 2002.
توثيق جمعية اللغة المعاصرة MLA (الطبعة الثامنة)Zhang, Hao. Study on the Corrosion Behavior of Tungsten and Titanium in Post-etch Strippers Commonly Used in Semiconductor Manufacturing. 2002.
تحذير: قد لا تكون هذه الاستشهادات دائما دقيقة بنسبة 100%.