Chong, D. K. S. (2002). Study of plasma induced charging damage at CMOS gate process.
توثيق أسلوب شيكاغو (الطبعة السابعة عشر)Chong, Daniel Kien Seen. Study of Plasma Induced Charging Damage at CMOS Gate Process. 2002.
توثيق جمعية اللغة المعاصرة MLA (الطبعة الثامنة)Chong, Daniel Kien Seen. Study of Plasma Induced Charging Damage at CMOS Gate Process. 2002.
تحذير: قد لا تكون هذه الاستشهادات دائما دقيقة بنسبة 100%.