Fabrication and reliability study of ultrathin nitride/oxide gate stack and oxynitride /
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Lin, Wenhe |
---|---|
التنسيق: | أطروحة كتاب |
اللغة: | English |
منشور في: |
2002.
|
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Samarium oxide and samarium oxynitride thin film gate oxides on silicon substrate /
بواسطة: Goh, Kian Heng
منشور في: (2017) -
Ultra-thin gate oxide reliability /
بواسطة: Ang, Chew Hoe
منشور في: (2000) -
Gate oxide integrity study /
بواسطة: Lee, Joshua Wai Khin
منشور في: (1999) -
Impacts of ultrathin biaxial strained silicon on ultimate drive velocity, effective gate capacitance and threshold voltage
بواسطة: Yau , Wei Heong
منشور في: (2010) -
Study of gate oxide degradation using photon emission spectroscopy /
بواسطة: Chen, Kok Kiong
منشور في: (2002)