Application of NH4F chemistry for the pre-gate oxidation cleaning process /
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Teo, Eric Yeow Hwee |
---|---|
التنسيق: | أطروحة كتاب |
اللغة: | English |
منشور في: |
2002.
|
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Gate oxide integrity study /
بواسطة: Lee, Joshua Wai Khin
منشور في: (1999) -
Development of ultra-thin nitrogen-rich gate oxide process for deep submicron CMOS technology /
بواسطة: Lek, Chun Meng
منشور في: (2002) -
The effect of nitrogen incorporation into gate oxide by nitrogen implantation /
بواسطة: Ko, Lian Hoon
منشور في: (1999) -
Phycoremediation of NH4+ and PO43- from meat processing wastewater by using microalgae botryococcus sp.
بواسطة: Shanmugan, Vikneswara Abirama
منشور في: (2017) -
Study of gate oxide degradation using photon emission spectroscopy /
بواسطة: Chen, Kok Kiong
منشور في: (2002)