Hydrogenated amorphous silicon by pulsed plasma enhanced chemical vapour deposition technique /

محفوظ في:

التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلف الرئيسي:	Goh, Boon Tong
التنسيق:	أطروحة كتاب
اللغة:	English
منشور في:	2005.
الموضوعات:	Plasma-enhanced chemical vapor deposition. Amorphous semiconductors.
الوسوم:	إضافة وسم لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!

الوصف
وصف مادي:	xvi, 189 leaves : ill. ; 30 cm.
بيبلوغرافيا:	Bibliography: leaves 180-181.

مواد مشابهة