Amorphous silicon (a-Si:H)/silicon nitride (a-SiNx:H) superlattice by D.C. plasma enhanced chemical vapour deposition : preparation and characterization /
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Mitani, Sufian Mousa Ibrahim |
---|---|
التنسيق: | أطروحة كتاب |
اللغة: | English |
منشور في: |
2004.
|
الموضوعات: | |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Hydrogenated amorphous silicon by pulsed plasma enhanced chemical vapour deposition technique /
بواسطة: Goh, Boon Tong
منشور في: (2005) -
Hydrogenated amorphous silicon prepared by d.c. plasma enhanced chemical vapour deposition of helium diluted silane /
بواسطة: Roszairi Haron
منشور في: (2004) -
Effect of annealing on direct current and pulse PECVD hydrogenated amorphous silicon /
بواسطة: Lim, Seck Chai
منشور في: (2004) -
Direct-current plasma glow discharged hydrogenated SiNx alloys : deposition and physical studies /
بواسطة: Faidz Abd. Rahman
منشور في: (1996) -
Plasma enhanced chemical vapour deposition of carbon nitride films from ethane and nitrogen gas mixtures /
بواسطة: Maisara Othman
منشور في: (2012)