Dependence of physical and electronic properties on the thickness of silicon dioxide thin films /
محفوظ في:
| المؤلف الرئيسي: | Sangar Subramaniam |
|---|---|
| التنسيق: | أطروحة كتاب |
| اللغة: | English |
| منشور في: |
2005.
|
| الموضوعات: | |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Trap-assisted tunneling mechanism of Zirconium Oxynitride (ZrON) thin film on Silicon Carbide /
بواسطة: Nicklaane Krishnamoorthy
منشور في: (2020) -
The structure and optical characteristics of plasma enhanced chemical vapour deposited silicon oxide thin films /
بواسطة: Tan, Kim Hee
منشور في: (1997) -
The structure and physical characteristics of E-Beam sputtered ZnSe thin films /
بواسطة: Sangar Subramaniam
منشور في: (1997) -
Structure and optical properties of multi-phase structured amorphous silicon carbon nitride thin films deposited by plasma enhanced chemical vapour deposition /
بواسطة: Mohd Azam Abdul Rahman
منشور في: (2018) -
Preparation and characterisation of hydrogenated R.F. sputtered amorphous silicon carbide films /
بواسطة: Loo, Fook Leong
منشور في: (1996)
