A study of deposited (Ti[1-X]A1[X]) N thin film by reactive magnetron sputtering /
محفوظ في:
| المؤلف الرئيسي: | |
|---|---|
| التنسيق: | أطروحة كتاب |
| اللغة: | English |
| منشور في: |
2006.
|
| الموضوعات: | |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
| وصف المادة: | [1-X] [X] are subscripts. |
|---|---|
| وصف مادي: | xii, 63 leaves : ill. ; 30 cm. |
| بيبلوغرافيا: | Bibliography: leaves 60-63. |