Lim, W. H. (2010). Optimization of inductively coupled plasma dry etching for planar waveguide fabrication.
توثيق أسلوب شيكاغو (الطبعة السابعة عشر)Lim, Weng Hong. Optimization of Inductively Coupled Plasma Dry Etching for Planar Waveguide Fabrication. 2010.
توثيق جمعية اللغة المعاصرة MLA (الطبعة الثامنة)Lim, Weng Hong. Optimization of Inductively Coupled Plasma Dry Etching for Planar Waveguide Fabrication. 2010.
تحذير: قد لا تكون هذه الاستشهادات دائما دقيقة بنسبة 100%.