Optimization of inductively coupled plasma dry etching for planar waveguide fabrication /
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Lim, Weng Hong |
---|---|
التنسيق: | أطروحة كتاب |
اللغة: | English |
منشور في: |
2010.
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | http://studentsrepo.um.edu.my/id/eprint/4307 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Inductively coupled plasma dry etching process on planar lightwave circuit fabrication /
بواسطة: Chuah, Khoon Seah
منشور في: (2010) -
Laser cleaning of plasma-etch-induced polymers from via holes and other submicron structures on silicon wafers /
بواسطة: Lee, Yuan Ping
منشور في: (1998) -
Plasma charge damage in submicron process /
بواسطة: Song, Jun
منشور في: (1999) -
Characterization of an inductively coupled plasma produced in argon at 13.56 MHz /
بواسطة: Lim, Ai Nuan
منشور في: (2010) -
Studies on a planar coil inductively coupled plasma system and its applications /
بواسطة: Kok, Yip Cheong
منشور في: (1997)