Hot-wire plasma enhanced chemical vapour deposition system for preparation of silicon carbide thin films /
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Aniszawati Azis |
---|---|
التنسيق: | أطروحة كتاب |
اللغة: | English |
منشور في: |
2012.
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | http://studentsrepo.um.edu.my/id/eprint/3841 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Hot-wire chemical vapour deposition of silicon carbide thin films from pure silane and methane gases /
بواسطة: Tehrani, Fatemeh Shariatmadar
منشور في: (2013) -
Plasma enhanced chemical vapour deposition of carbon nitride films from ethane and nitrogen gas mixtures /
بواسطة: Maisara Othman
منشور في: (2012) -
Hydrogenated silicon nitride alloy from DC plasma decomposition : preparation and physical properties /
بواسطة: Raihan Othman
منشور في: (1998) -
Direct-current plasma glow discharged hydrogenated SiNx alloys : deposition and physical studies /
بواسطة: Faidz Abd. Rahman
منشور في: (1996) -
Hot-filament plasma enhanced chemical vapour deposition of transfer-free graphene using nickel catalyst /
بواسطة: Maisara Othman
منشور في: (2019)