Hybrid Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition/sputtering system for preparation of luminescent silicon carbon films /
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Nur Maisarah Abdul Rashid |
---|---|
التنسيق: | أطروحة كتاب |
اللغة: | English |
منشور في: |
2013.
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | http://studentsrepo.um.edu.my/id/eprint/4414 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Plasma enhanced chemical vapour deposition of carbon nitride films from ethane and nitrogen gas mixtures /
بواسطة: Maisara Othman
منشور في: (2012) -
Layer-by-layer plasma enhanced chemical vapour deposition of nanocrystalline silicon thin films /
بواسطة: Goh, Boon Tong
منشور في: (2012) -
Hot-wire plasma enhanced chemical vapour deposition system for preparation of silicon carbide thin films /
بواسطة: Aniszawati Azis
منشور في: (2012) -
Structure and optical properties of multi-phase structured amorphous silicon carbon nitride thin films deposited by plasma enhanced chemical vapour deposition /
بواسطة: Mohd Azam Abdul Rahman
منشور في: (2018) -
Hydrogenated silicon nitride alloy from DC plasma decomposition : preparation and physical properties /
بواسطة: Raihan Othman
منشور في: (1998)