Maisara Othman. (2012). Plasma enhanced chemical vapour deposition of carbon nitride films from ethane and nitrogen gas mixtures.
توثيق أسلوب شيكاغو (الطبعة السابعة عشر)Maisara Othman. Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition of Carbon Nitride Films from Ethane and Nitrogen Gas Mixtures. 2012.
توثيق جمعية اللغة المعاصرة MLA (الطبعة الثامنة)Maisara Othman. Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition of Carbon Nitride Films from Ethane and Nitrogen Gas Mixtures. 2012.
تحذير: قد لا تكون هذه الاستشهادات دائما دقيقة بنسبة 100%.