Optimization of line pattern transfer of integrated optical mach-zender interferometer for optical sensor
Conventional photolithography usually used in in-house fabrication process to transfer the design of line pattern. This research lays the foundation for the optimization of photo lithography process for line pattern transfer of complex optical circuitry. Integrated Optical Mach-Zehnder Interferomet...
محفوظ في:
| التنسيق: | أطروحة |
|---|---|
| اللغة: | English |
| الموضوعات: | |
| الوصول للمادة أونلاين: | http://dspace.unimap.edu.my:80/xmlui/bitstream/123456789/78345/5/Page%201-24.pdf http://dspace.unimap.edu.my:80/xmlui/bitstream/123456789/78345/2/Full%20text.pdf http://dspace.unimap.edu.my:80/xmlui/bitstream/123456789/78345/3/Nurulbariah.pdf |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|