Kesan Rawatan Kriogenik Terhadap Struktur Antaramuka Ni/Si Dalam Peranti Silikon Sebagai Pengesan Foto [QC373.P9 Z21 2008 f rb].

Projek ini mengkaji kesan rawatan kriogenik terhadap struktur antaramuka Ni/Si dalam silikon sebagai pengesan foto. This project studied the effects of cryogenic treatment on Ni/Si interface in silicon device as a photodetector.

Saved in:
Bibliographic Details
Main Author: Mohd Yusoff, Mohd Zaki
Format: Thesis
Language:English
Published: 2008
Subjects:
Online Access:http://eprints.usm.my/8960/1/KESAN_RAWATAN_KRIOGENIK_TERHADAP_STRUKTUR_ANTARAMUKA_NI_SI_DALAM_PERANTI_SILIKON_SEBAGAI_PENGESAN_FOTO.pdf
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!