Characterization and reliability investigatigation of eeprom tunnel oxide /
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Lai, Kah Keen |
---|---|
التنسيق: | أطروحة كتاب |
اللغة: | English |
منشور في: |
2001.
|
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Tunneling in reliability study of MOS structures /
بواسطة: Ma, Siguang
منشور في: (1999) -
A study of CO/oxide/COFE tunneling junctions /
بواسطة: Lim, Zao Lin
منشور في: (2001) -
Instrumentation development of an automated integrated test system (AITS) for the characterization of hot-carrier and oxide reliability /
بواسطة: Ng Tsu Hau
منشور في: (2000) -
Fabrication and reliability study of ultrathin nitride/oxide gate stack and oxynitride /
بواسطة: Lin, Wenhe
منشور في: (2002) -
Static current and voltage techniques for CMOS reliability characterization /
بواسطة: Jie, Bin Bin
منشور في: (1999)