PECVD hydrogenated amorphous carbon films : growth and characterization /
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Rozidawati Awang |
---|---|
التنسيق: | أطروحة كتاب |
اللغة: | English |
منشور في: |
2008.
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | http://dspace.fsktm.um.edu.my/handle/1812/599 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Hydrogenated amorphous silicon by pulsed plasma enhanced chemical vapour deposition technique /
بواسطة: Goh, Boon Tong
منشور في: (2005) -
Synthesis and characterization of RF-PECVD carbon nitride thin films /
بواسطة: Lim, Shuang Fang
منشور في: (1999) -
Effect of annealing on direct current and pulse PECVD hydrogenated amorphous silicon /
بواسطة: Lim, Seck Chai
منشور في: (2004) -
Hydrogenated amorphous silicon prepared by d.c. plasma enhanced chemical vapour deposition of helium diluted silane /
بواسطة: Roszairi Haron
منشور في: (2004) -
Amorphous silicon (a-Si:H)/silicon nitride (a-SiNx:H) superlattice by D.C. plasma enhanced chemical vapour deposition : preparation and characterization /
بواسطة: Mitani, Sufian Mousa Ibrahim
منشور في: (2004)