الموضوعات المستخلصة من بحثك.
يعرض 1 - 3 نتائج من 3 نتيجة بحث عن '', وقت الاستعلام: 0.01s تنقيح النتائج
  1. 1
    Process integration issues of self-aligned titanium silicide technology (Ti-Salicide) in deep sub-micron CMOS devices fabrication /
    بواسطة Lim, Chong Wee
    منشور في 1998
    أطروحة كتاب
    أضف إلى المفضلة
    محفوظ في:
  2. 2
    A study of stress in backend metallization in ULSI devices /
    بواسطة Goh, Chia Lan
    منشور في 2006
    أطروحة كتاب
    أضف إلى المفضلة
    محفوظ في:
  3. 3
    Probing technique for energy distribution of positive charges in gate dielectrics and its application to lifetime prediction /
    احصل على النص الكامل
    أطروحة كتاب
    أضف إلى المفضلة
    محفوظ في:
أدوات البحث: أحصل على تغذية RSS — أرسل هذا البحث بالبريد الإلكتروني — حفظ البحث